狂砍200亿美元，ASML突然“反水”，反转来得有点儿快

　　ASML也反水了，一直坚持向国内市场出货的光刻机的ASML，但温克宁却突然表示，中国自研光刻机等半导体技术，是破坏全球产业链的行为，这实在让人大跌眼镜。

　　要知道，美修改芯片规则后，ASML一直都是持反对态度。

　　例如，美限制ASML出货，ASML表示限制只会加速国内厂商突破，并加速向国内出货，称对全球厂商一视同仁。

　　美游说ASML，但遭到了ASML的拒绝。

　　

　　美用三方协议限制日荷出货，荷兰向ASML施压。

　　结果ASML率先透露三方协议达成的消息，希望厂商利用好空窗期，并表示将会持续出货1980Di DUV光刻机。

　　在中国高层发展轮胎上，ASML总裁明确表示，因为瓦森纳协定，让中国错失EUV光刻机最大的市场。

　　ASML总裁如此表态，明显是表达了对美限制出货的不满。

　　但回国后的ASML总裁，却突然反水，称中国自研光刻机等半导体技术，是破坏全球产业链的行为。这也是有原因的。

　　

　　首先，芯片巨头狂砍超200亿美元。

　　ASML的营收主要来自光刻机销售，芯片厂商买光刻机的数量越多，ASML就赚得越多。

　　但从2022年后半年开始，先进工艺芯片产能就开始过剩，各大芯片巨头都在削减资本开支。

　　其中，台积电2023年资本开支在320亿到360亿美元，与2022年最高440亿美元相比，最高削减超120亿美元；

　　英特尔计划2023年削减资本开支超30亿美元，高通削减资本开支约10亿美元；

　　再加上，三星、美光、SK海力士等芯片巨头，2023年芯片巨头们削减资本开支超过200亿美元，这意味着光刻机的需求在持续降低。

　　

　　消息称，台积电计划削减40%的EUV光刻机订单，而台积电是ASML EUV光刻机最大客户，这意味着其它厂商也不会太理想。

　　大量厂商削减订单，ASML的日子自然不好过。

　　其次，国产光刻机等半导体技术发展太快。

　　全球有四家企业能够独立生产制造光刻机，但上海微电子将会成为ASML最大的竞争对手，原因是美限制让国内厂商加速半导体技术本土化。

　　就目前而言，国产光刻机突破90nm，最高可用于22nm工艺；28nm精度的光刻机取得技术验证，未来可用于7nm；

　　

　　另外，国内厂商已经规模量产14nm； 8nm有望今年底量产，而7nm研发任务已经完成；

　　华为还宣布14nm以上EDA软件实现国产化等等。

　　数据显示，国产光刻机拿下国内八成市场，全球四成市场，国产先进光刻机突破，ASML的市场必然会下滑。

　　ASML反水无非想卖出几台光刻机，毕竟，国内厂商无形中给AMSL带来了压力。

　　最后，ASML遇到瓶颈。

　　ASML已经承认EUV技术达到了极限，目前还没有更好的解决办法，这意味着国内技术在快速增长，ASML相当于停滞不前，时间长了，自然就赶上了。

　　

　　更何况，荷兰已经开始投资光电芯片，这无疑对ASML下结论了。

　　但在光电芯片技术方面，国内厂商处于领先地位，而新一代量子芯片已经开始成形，这都将加速光电芯片、量子芯片的商用进度，从而降低对ASML的依赖。

　　也正是因为如此，才说狂砍200亿美元，ASML突然“反水”，反转来得有点儿快。对此，你们怎么看。

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