华为被困芯片制造 中国神秘计划终于浮出水面：国产光刻机将至

　　中国缺少先进芯片制造能力，一直是我们国家半导体产业的不可磨灭的伤痛。在美国的制裁下，台积电已经断供华为，而举国上下却无人可助华为。

　　中国高科技行业在美方的制裁下更加如履薄冰，形势一再严峻。而改变这一艰难困境，只能购买第三方的芯片，而如此一来，我们一直坚守的“芯片自主可控”理念又沦为了他国半导体行业的笑柄。

　　除非我们能够自己掌握芯片制造技术，而这关键设备就是自主研发的光刻机。然而，光刻机是号称是半导体行业“皇冠上的明珠”，是一种集合了数学、光学、高分子物理与化学、流体力学、表面物理与化学、自动化、精密仪器、机械、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。

　　一辆汽车大概有20000个零件，而一台先进的光刻机上有10万个零部件。

　　可以说，光刻机是集合了人类的所有智慧的顶尖科技产物，特别是EUV（极紫外线）光刻机，其技术要求非常高，可以说是逼近物理学、材料学和精密制造的极限。所以，从来没有一个国家能够单独研发出来EUC光刻机。

　　目前，光刻机业界龙头老大是荷兰ASML，其生产的光刻机设备独步天下。但ASML的光刻机也是建立在西方各国合作的基础之上，离不开德国蔡司的光学技术，离不开美国光源技术……

　　近段时间，有消息称，华为即将进军芯片制造行业，打造全产业链模式。消息还透露，华为早在2016年就申请了和光刻机相关的技术专利，相关数据显示华为在这方面已经投入80亿元的成本。

　　如果该消息为真，那么华为真的可以说是选择了一条最艰难的道路，甚至是一条有死无生的道路，一旦失败，巨大的成本可能会拖垮整个公司。

　　既然芯片这么重要，光刻机这么重要，国家有没有相应的计划呢？

　　众所周知，中国最大的优势就是“集中力量办大事”，当年原子弹都能搞出来，光刻机难道造不出来？

　　嘿嘿，国家还真有这么一项专门针对半导体工艺相关技术的重大专项计划。

　　它的名字就是：02专项。

　　全称《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目，因次序排在国家重大专项所列16个重大专项第二位，在行业内被称为“02专项”。

　　这个国家重大项目做出了哪些成就？

　　我简单举几个例子：

　　EUV极紫外光源（中科院长春光机所）

　　EUV光刻胶（中国科学院化学研究所、中国科学院理化技术研究所、北京科华微电子材料有限公司联合承担）

　　高NA浸没光学系统（长春国科精密光学）

　　光刻机双工件台系统（清华大学、华卓精科）

　　区熔硅单晶片产业化技术（中环）

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　　另外再说一个时间节点：2025年。

　　在《中国制造2025》技术路线图中，列出了多种需要攻克的半导体工艺，其中EUV光刻机是其中最高精尖的技术之一，这也是突破7nm及更先进制程工艺的关键技术设备。

　　2015年5月国务院印发的《中国制造2025》，制图见水印。

　　目前在EUV光刻机方面，中国科学院长春光机所牵头研制了国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”在2016年通过了验收。虽然这只是技术上的预研，但是随着近几年多个关键技术逐渐攻破，我相信在2025年前，拥有中国自主技术的EUV光刻机肯定会研发成功。

　　中国每一项重大技术进步都是从西方国家虎口夺食，无论是原子弹技术还是现在的半导体工艺技术，西方国家对我们各种封堵，其原因就是想要持续收割我们、蹂躏我们。然而每一次，我们总能从牢笼中冲出一条光明的道路来。

　　以前，在西方国家绞杀+科研资金投入有限+技术人才缺失的情况下，我国的光刻机技术寸步难进。而且那时候我们也没有多少紧迫感，因为在先进芯片工艺上，国外还暂时没有全面封堵我们。

　　而今时不同往日，华为海思——中国最大的芯片设计公司被一纸禁令断绝了自研芯片产业链，对我国的半导体产业造成了破坏性的结果。

　　现在的我们，已经无路可退，只有胜利可言，先进光刻机必须国产化！

　　此外，随着核高基02专项解决了光源、物镜等核心部件受制于人的情况，国产光刻机技术进步即将迎来一个快速发展期。相信不久后，华为的困局将会迎刃而解。

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